熱零點高達240攝氏度;UV NIL@365nm;壓印壓力 0.3至11Bar;真空壓?。?mbar);納米硅片和基板尺寸 高達200 mm
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NIR-MFD-S-SM-2 NILT CNI 實驗用納米熱壓印機是專為實驗室和研發(fā)機構(gòu)設(shè)計和開發(fā)的簡單易用、性能穩(wěn)定的研發(fā)型設(shè)備,用戶可以通過CNI設(shè)備高效、低成本地實現(xiàn)高精度的納米熱壓工藝,許多知名的研發(fā)機構(gòu)均購買了CNI的設(shè)備和NILT CNI熱壓設(shè)備。
THERMAL NIL 主要性能指標:
● 集成控溫卡盤,可對溫度進行測量、控制
● 可適用于100mm(4 英寸以下)所有尺寸和形狀的壓印模板。
● 可適用于Silicon, Quartz, Nickel and Polymer materials
● 壓印程序可進行編程
● 適用所有熱壓印材料
● 設(shè)備可用于復(fù)制壓印母板
● 壓印溫度可達200 攝氏度
● 壓力范圍:1‐10 bar
● 壓印精度:40nm 或更好 (可完成工藝驗收)
● 將模板加熱和溫度測量集成與壓印載盤上
● 載盤適用于易碎襯底
● 快速升溫,快速降溫,擁有技術(shù)上認可技術(shù)的卡盤設(shè)計,可保證快速升溫、降溫并保持良好的溫度均勻性。20℃‐130℃‐70℃少于8 分鐘
● 提供COC 有機聚合物中間層軟膜(先進的母板復(fù)制工藝),耗材及工藝培訓(xùn)
● 提供壓印相關(guān)材料
● 提供工藝培訓(xùn)和支持
壓印程序可進行編程(溫度、壓力、時間)
壓印實例
聚合物中間層工藝
NIL TECHNOLOGY ApS (NILT)高分子聚合物中間層壓印技術(shù)可以實現(xiàn)納米壓印/熱壓印非平面化的壓印,同時高分子聚合物中間層的熱塑彈性材料實現(xiàn)納米結(jié)構(gòu)的轉(zhuǎn)移和復(fù)制??杀Wo昂貴的母板因多次轉(zhuǎn)印而損壞,同時用于母板的復(fù)制。
NIL TECHNOLOGY ApS (NILT) 部分應(yīng)用實例:
1、仿生應(yīng)用用于制作昆蟲眼部六角結(jié)構(gòu)
2、微型注射針頭結(jié)構(gòu)
3、方形結(jié)構(gòu)陣列500nm
4、分布式反饋激光器,240nm光柵結(jié)構(gòu)
5、磷化銦(InP),突出高度:112 nm
● 占地小、操作簡便
● 可實現(xiàn)高質(zhì)量的圖形復(fù)制
● 可實現(xiàn)納米熱壓設(shè)備的一切功能,而無需昂貴的工藝設(shè)備。
● 在硅片上制作納米級光柵
● 壓印易碎的材料(例如III-V族材料)
● 微結(jié)構(gòu)加工
● 制作壓印印章
● 保護母版的適用壽命
● 熱壓高深寬比結(jié)構(gòu)圖形