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極紫外和軟x射線輻射EUV顯微鏡 (Metrology計(jì)量學(xué) 無(wú)損亞納米級(jí)次表面成像)  

極紫外和軟x射線輻射EUV顯微鏡 (Metrology計(jì)量學(xué) 無(wú)損亞納米級(jí)次表面成像)
三維無(wú)損成像技術(shù)在材料科學(xué)和醫(yī)學(xué)等許多應(yīng)用領(lǐng)域都非常重要。我們開(kāi)發(fā)了一種成像技術(shù),利用極紫外和軟x射線輻射來(lái)獲得納米分辨率的橫截面圖像。例如,我們能夠無(wú)損地研究硅片或生物樣品中的近表面結(jié)構(gòu)。在下邊的圖片中,你可以看到幾個(gè)埋在硅下的金層。它們的位置可以用我們的計(jì)量?jī)x測(cè)量,精度低于1nm。這些層位于表面下的110 nm和128 nm處。


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產(chǎn)品型號(hào) 1
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E80100170  極紫外和軟x射線輻射EUV顯微鏡 (Metrology計(jì)量學(xué) 無(wú)損亞納米級(jí)次表面成像)   [PDF] 無(wú)損成像;反射成像;軸向分辨率(厚度):<30nm;軸向位置精度:<1nm;最大深度:<1μm;高材料對(duì)比度    價(jià)格 : ¥0 庫(kù)存/貨期:請(qǐng)咨詢客服
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三維無(wú)損成像技術(shù)在材料科學(xué)和醫(yī)學(xué)等許多應(yīng)用領(lǐng)域都非常重要。我們開(kāi)發(fā)了一種成像技術(shù),利用極紫外和軟x射線輻射來(lái)獲得納米分辨率的橫截面圖像。

例如,我們能夠無(wú)損地研究硅片或生物樣品中的近表面結(jié)構(gòu)。

在下邊的圖片中,你可以看到幾個(gè)埋在硅下的金層。它們的位置可以用我們的計(jì)量?jī)x測(cè)量,精度低于1nm。這些層位于表面下的110 nm和128 nm處。


通用參數(shù)


關(guān)鍵信息

● 無(wú)損成像

● 反射成像

● 軸向分辨率(厚度)<30nm

● 軸向位置精度<1nm

● Max深度<1μm

● 高材料對(duì)比度

● 易于安裝樣品



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