貨號 | 操作 | 名稱 | 描述 |
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圖片 | 名稱 | 貨號貨期 | 描述 | 價格 |
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產(chǎn)品特征:
? 特殊的衍射波前誤差
? 全光圈均勻度高
? 堅固的蝕刻結(jié)構(gòu)
? 優(yōu)秀的特征定位精度
?可能實現(xiàn)兩個維度上的空間變化周期
產(chǎn)品應(yīng)用:
啁啾脈沖放大
波束組合
精密定位與計量
用于高強度激光器的球形和圓柱形聚焦元件
產(chǎn)品參數(shù):
產(chǎn)品參數(shù) | 規(guī)格 |
尺寸 | 高達(dá)920mm×600mm |
周期/頻率 | 200 nm – 20 μm / 50 – 5,000 lines/mm |
深度 | 10 – 5,000 nm (取決于周期/頻率) |
衍射波前誤差 | < λ /4PV(typ.RMS<1nm/inch!) |
基底材料 | 種類多(Shou選熔融石英) |
涂層材料 | 種類多(金屬和電介質(zhì)) |
Plymouth Grating Lab Shou次商業(yè)化掃描束干涉光刻(SBIL),最初由麻省理工學(xué)院開創(chuàng),用于生產(chǎn)具有出色均勻性、高激光損傷閾值和真空低應(yīng)力的米級多層電介質(zhì)(MLD)衍射光柵。PGL隨后將其技術(shù)擴展到包括金屬反射光柵、透射光柵、二維光柵,甚至包括由曲線組成的聚焦光柵。我們的重點是激光光柵和激光系統(tǒng),應(yīng)用于科學(xué)研究、工業(yè)、醫(yī)療、國防和半導(dǎo)體市場。PGL不僅在光柵寫入方面,而且在光學(xué)涂層、反應(yīng)離子蝕刻、光學(xué)計量以及大型光學(xué)器件的精密清潔、檢查和處理方面都發(fā)展了特殊的專業(yè)知識。
產(chǎn)品詳細(xì)信息
下表說明了常見類型的PGL光柵的規(guī)格典型值和范圍。
PGL的不一樣功能使得以與標(biāo)準(zhǔn)直線光柵相同的效率、均勻性和可重復(fù)性制造具有可變周期和凹槽方向的光柵,從而實現(xiàn)啁啾和聚焦光柵。
產(chǎn)品參數(shù) | 多層電介質(zhì)(MLD)光柵 | 鍍金光柵 | 透射光柵 | 2D光柵 |
光柵類型 | 反射型 | 反射型 | 透射型 | 反射型或者透射型 |
衍射效率 | 典型值.95-98% | 典型值.91-94% | 典型值.93-96% | 多階(Multi-order) |
波前誤差[1] | <λ/3 | <λ/4 | <λ/4 | <λ/4 |
激光損傷閾值 | 高(2.5J/cm2 1054nm 10ps) | 中(0.25J/cm2 800nm 100fs) | 高(15J/cm2 1054nm 10ns) | 中到高(取決于尺寸 |
帶寬 | 中(典型值.30-40nm) | 高(高達(dá)200nm) | 中到高(10’s到>100nm)) | 低(典型值.單波長) |
Max. 尺寸[2] | 920mm×600mm | 920mm×600mm | 470mm×470mm | 920mm×600mm |
[1] 取決于基板尺寸和縱橫比
[2] 主要受當(dāng)前納米尺配置的限制,但受蝕刻設(shè)備限制的較深透射光柵除外