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優(yōu)點

零水溶性

良好的耐化學性

良好的光譜范圍

高折射率允許設計出色的抗反射 (AR) 涂層

高折射率意味著 ATR 應用中的穿透深度非常低

高折射率允許非常創(chuàng)新的折射元件光學設計

低成本

可以通過金剛石車削制造

缺點

自由載流子吸收限制了在高溫下的使用

在不能使用增透膜的應用中，高折射率會限制傳輸

紅外探測器窗口

ATR元素

單次反射 ATR 顯微鏡

聚光透鏡 - 高折射率允許非常清晰的焦點用于顯微鏡應用

成像鏡頭——當與 AMTIR 元件結合形成消色差鏡頭時，可以實現(xiàn)出色的寬帶成像

Ge 已被用作 FT-IR 分束器——這是通過在分束器的背面和補償器的兩側使用 BBAR 涂層來實現(xiàn)的

光譜范圍

短波極限：5,500 cm ^-1 (1 mm)
長波極限：432 cm ^-1 (1 mm)、574 cm ^-1 (4 mm)

涂層

Ge 的高折射率允許設計透射率大于 98% 的 BBAR 涂層。它還可以進行涂層以控制 ATR 應用中的穿透深度。

折射率¹

具體指標上市；通用：4.00 @ 10 um

注¹

透射率大于規(guī)定晶體厚度的 50% 的短波長和長波長限制。

HH 李; 鍺和硅的折射率及其波長和溫度導數。物理與化學雜志，參考數據，卷。9m (3), p. 561-601.1980.

物理數據

熔點：936 °C
密度：5.33 g/cm ³
在 H₂O中的溶解度：不溶性
硬度：780 kg/mm ²
外觀：金屬

遠紅外傳輸 - 1 毫米厚的 Ge 窗口片

遠紅外傳輸 - 4 毫米厚的 Ge 窗口片

型號列表

Ge DisksGe :

Disks, XP-BBAR Coated (2–14 micron):

XP-BBAR?（寬帶抗反射）涂層在Ge窗片上的應用顯著增加了最寬光譜范圍內的紅外線透射。 該涂覆窗片針對優(yōu)化覆蓋2-14um的光譜區(qū)域。

Ge Disks, XP-NBAR Coated (8–12 micron):

XP-NBAR?（窄帶抗反射）涂層在Ge窗片上的應用顯著增加了在有限光譜范圍內的紅外透射。 該涂覆窗片針對優(yōu)化覆蓋8-12um的光譜區(qū)域。